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HOE (Holographic Optical Elements)

Holography 기법을 사용하여 굴절률 변조의 형태로 DOE의 동작을 수행하도록 제작된 소자.
기록매질로는 silver halide, DCG(dichromated gelatin), PR(photoresist) 그리고 photopolymer 등이 사용되며, 여기에 레이저의 간섭무늬를 기록하여 제작.
Applications : HUD(head-up display), see-through HMD(head mounted display), lens, filter, beam splitter, diffraction grating, etc.

적용사례
  • Optical Spectrum Analyzer(OSA)
  • Optical Sensor
  • Spatial filter
  • Finger print sensor devices
일반특성
  • 재료 : Photopolymer, Silver Halide
  • 크기 : max. 500x500mm
  • 형태 : 투과형, 반사형
  • 제작 : Holography, Laser-beam interference lithography
  • 장점 : 최소의 비용으로 1D/2D grating 제작
  • 패턴 : Optical setup 가능한 구조만 가능
  • Spectrometer등의 광 분석용 소자 제작에 적합
HOE특성
  • Grating period: 200 nm ~ 2,000 nm
  • Grating fill-factor: 30 % ~ 70 %
  • Max. pattern size : 50 mm x 50 mm
  • Pattern layer : PR/Glass, PR/Si wafer
  • Substrate : 3-4 inch glass/Si wafer
  • Time Period: 2 Weeks
  • 효율 및 균일도 (옵션) : 90 % 내외